蔡司場發射掃描電鏡Crossbeam 500場發射掃描電子顯微鏡

詳細說明

蔡司場發射掃描電鏡Crossbeam 500場發射掃描電子顯微鏡為您進行要求苛刻的材料表征并選擇適合您的樣品尺寸——標準尺寸或大尺寸。Gemini 2電子光學系統即使在低電壓和高束流條件下亦可提供高分辨率。如需在高束流條件下獲得高分辨率圖像以及進行快速分析，這無疑是您的理想之選。

使您的掃描電鏡具備強大的洞察力
通過樣品臺減速技術（Tandem decel，新型蔡司Gemini電子光學系統的一項功能）實現低電壓電子束分辨率提升高達30%。
使用Gemini電子光學系統，您可以從高分辨率掃描電鏡（SEM）圖像中獲取真實的樣品信息。
在進行高度靈敏表面二維成像或三維斷層成像時，您可以信賴蔡司雙束電鏡Crossbeam系列的性能。
即使在使用非常低的加速電壓時也可獲得高分辨率、高對比度和高信噪比的清晰圖像。
借助一系列的探測器實現樣品的全方位表征；使用獨特的Inlens      EsB探測器獲得更純的材料成分襯度。
使用低電壓表征不導電樣品，消除荷電效應的影響。

提升您的聚焦離子束（FIB）樣品制備效率
得益于智能聚焦離子束（FIB）的掃描策略，移除材料相比以往實驗快40%以上。
鎵離子FIB鏡筒Ion-sculptor采用了全新的加工方式：盡可能減少樣品損傷，提升樣品質量，從而加快實驗進程。
使用高達100 nA的離子束束流，高效而**地處理樣品，并保持高分辨率。
制備TEM樣品時，請使用鎵離子FIB鏡筒Ion-sculptor的低電壓功能：獲得超薄樣品的同時，盡可能降低非晶化損傷。